目前光刻胶国际水平最高的也就G5的级别，

光刻胶按照现阶段的技术层面，分为以下5个等级：即g线光刻胶（426nm）、i线光刻胶（365nm）、KrF光刻胶（248nm）、ArF干法（193nm）和ArF浸湿法（193nm）。